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富乐华半导体申请覆铜陶瓷基板去膜设备专-利,达到覆铜陶瓷基板双面去膜目的
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金融界2025年1月25日消息,国家知识产权局信息显示,江苏富乐华半导体科技股份有限公司申请一项名为“一种覆铜陶瓷基板的去膜设备”的专-利,公开号CN119348281A,申请日期为2024年1
2025-02-28
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